为了确保光刻工艺的可重复性、可靠性和可接受性，必须在基板表面上均匀涂覆光刻胶。光刻胶通常分散在溶剂或水溶液中，是一种高粘度材料。根据工艺要求，有许多工艺可用于涂覆光刻胶。
今天九游j9国际站来介绍下光刻胶涂覆工艺的喷墨打印技术。
用于分配抗蚀剂的另一种方法是喷墨打印。这的工作方式类似于喷涂，产生光刻胶液滴。然而，与喷涂不同，这些液滴是在流而不是雾中产生的。然后可以精确控制这种液滴流并将其图案化到基板上。
喷墨印刷与其他涂层方法不同，虽然它可以用来生产均匀的光刻胶薄膜，但其使用的真正优势在于使用它直接对基材进行图案化。这可以通过仅在需要的地方沉积来显着节省使用的光刻胶量，从而降低光刻工艺的成本和环境影响。此外，可以直接将有机半导体和导电油墨等材料沉积到表面上，而无需运行光刻工艺。
喷墨打印增加灵活性和多功能性的缺点是涂层时间增加，导致涂层晶圆和基材的吞吐量降低。但是，这可以通过使用多个打印头和路径优化来抵消。此外，喷墨打印不是涂覆较厚抗蚀剂的理想解决方案，因为层厚通常只有几微米。